PVD(Physical Vapor Deposition物理气相沉积)是在真空条件下，通过电弧使大面积固态靶材高度蒸发离化，在可控的方式下与通入的反应气体结合，在产品表面形成1-10um的超硬薄膜，是表面处理领域的一项顶尖技术，该种膜层在真空密封的腔体内形成，所以没有任何环境污染问题，是绿色环保的技术；PVD工艺温度一般在500°以内，所以相比PVD涂层，有着更广泛的应用，可以在大部分基材上成膜。

阿诺涂层采用目前最优化的磁场结构，这种最新的磁场结构，在大电流的情况下也能够精确控制电弧的运动，最大限度的减少液滴，涂层质量更好，涂层表面更光滑。

TiAlN 表面粗糙度